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【技术在线】砥砺前行的国内光刻胶(图文)
光刻胶是光刻时用于接收图像的介质：光刻胶是一种有机化合物，受特定波长光线曝光作用后其化学结构改变，在显影液中的溶解度会发生变化，因此又称光致抗蚀剂。正胶在曝光后发生光化学反应，可以被显影液溶解，留下的薄膜图形与掩膜版相同；而负胶经过曝光后变成不可溶物质，非曝光部分被溶解，获得的图形与掩膜版相反。
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【技术前沿】掩膜版下游产业转移 国产替代加速进行时(图文)
掩膜版（Photomask）又称光罩、光掩膜、光刻掩膜版、掩模版等，功能类似于传统照相机的“底片”，是承载图形设计和工艺技术等知识产权信息的载体。掩膜版用于下游电子元器件制造业批量生产，是下游行业生产流程衔接的关键部分，更是下游产品精度和质量的决定因素之一。
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【技术在线】健康照明光环境相关问题探讨(图文)
随着新一代照明光源LED光源技术和照明控制技术的进步，现代照明早就不在只关注照亮环境了，而是朝着关注照明对人们健康的影响发展了。如何通过照明来构建健康、舒适的光环境，已成为民生关注的热点问题，2016年欧洲照明组织发布2025年战略发展图路线，明确“以人为本的照明”作为今后照明发展的核心。
