深圳市三一联光智能设备股份有限公司
冯白华 总经理
深圳光电产业控股集团有限公司
陈靖 董事长
深圳市九通光电科技有限公司
鲍恩忠 总经理
【标准制订】我会召开《ESD/TVS静电保护类器...
4月7日下午,我会在深圳市晶扬电子有限公司会议室,召开《ESD/TVS静电保护类器件测试规范》标准评审研讨会。出席会议的有晶杨电子董事长高东兴、董助刘伟明、深圳市计量质量检测研究院副总工程师蔡纯博士、长运通半导体赖清海、三联盛廖昌武、三一联光董事长冯白华、我会秘书长鲍恩忠等。
【技术在线】砥砺前行的国内光刻胶(图文)
光刻胶是光刻时用于接收图像的介质:光刻胶是一种有机化合物,受特定波长光线曝光作用后其化学结构改变,在显影液中的溶解度会发生变化,因此又称光致抗蚀剂。正胶在曝光后发生光化学反应,可以被显影液溶解,留下的薄膜图形与掩膜版相同;而负胶经过曝光后变成不可溶物质,非曝光部分被溶解,获得的图形与掩膜版相反。
【专家观点】干货满满!2020集邦咨询新型显示产...
王飞:Micro LED & MiniLED显示的未来趋势LEDinside首席分析师 王飞Micro LED毫无疑问是LED的一个子类别,但是如果放在半导体产业的视角下,Micro LED却是LED,半导体显示和集成电路三个大的子领域的交集。未来我们可以看到Micro LED对于整个产业带来的变化不仅是半导体不同产业子门类之间更多的协同,还会产生更多的交叉,而这种交叉领域带来的创新对行业的影响更为深远。
【标准联盟】室外道路智慧照明技术规范 第3部分:...
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【标准联盟】室外道路智慧照明技术规范 第2部分:...
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【技术前沿】掩膜版下游产业转移 国产替代加速进行...
掩膜版(Photomask)又称光罩、光掩膜、光刻掩膜版、掩模版等,功能类似于传统照相机的“底片”,是承载图形设计和工艺技术等知识产权信息的载体。掩膜版用于下游电子元器件制造业批量生产,是下游行业生产流程衔接的关键部分,更是下游产品精度和质量的决定因素之一。
【专家观点】站在时代角度 再看媒体立面
近些年来,媒体立面,我们俗称的“城市大电视”,如同雨后春笋一样出现在许多城市之中。媒体立面的大规模应用在业内争议很多,尤其是在审美和光污染方面饱受诟病。但今天我